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IC半導(dǎo)體領(lǐng)域
發(fā)布時(shí)間:2017-12-11  瀏覽:
COB/COF/COG

     隨著智能手機(jī)的飛速發(fā)展,人們對(duì)手機(jī)攝像頭像素的要求越來(lái)越高,如今用傳統(tǒng)的 CSP 封裝工藝制造的手機(jī)攝像模組像素己達(dá)不到人們的需求,而用COB/COG/COF封裝工藝制造的手機(jī)攝像模組已被大量的運(yùn)用到了現(xiàn)在的千萬(wàn)像素的手機(jī)中,但其制造的良率因其工藝特性往往只有85%左右,而造成的手機(jī)良率不高的原因主要在于離心清洗機(jī)和超聲波清洗做不到高潔凈度的清洗 holder 及 Pad 表面污染物,致使 holder 與IR粘接力不高及 bonding 不良的問(wèn)題,經(jīng)等離子體處理后能超潔凈的去除 holder 上的有機(jī)污染物和活化基材,使其與IR 粘接力能提高2~3倍,也能去除 Pad 表面的氧化物并粗化表面,極大的提升了 banding 的一次成功率。


半導(dǎo)體硅片(Wafer)

     IC芯片制造領(lǐng)域中,等離子體處理技術(shù)己是一種不可替代的成熟工藝,不論在芯片源離子的注入,還是晶元的鍍膜,亦或是我們的低溫等離子表面處理設(shè)備所能達(dá)到的:在晶元表面去除氧化膜、有機(jī)物、去掩膜等超凈化處理及表面活化提高晶元表面浸潤(rùn)性。

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